|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 50 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of nitrogen gas flow rate on the structural, morphological and electrical properties of sputtered TiN films |
| Auteur: |
Arshi, Nishat Lu, Junqing Joo, Yun Kon Lee, Chan Gyu Yoon, Jae Hong Ahmed, Faheem |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 24 (2012) nr. 4 pagina's 1194-1202 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 50 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |