|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of GaN thin films by inductively coupled plasma etching with Cl2/BCl3 and Cl2/Ar |
| Auteur: |
Yang, G. F. Chen, P. Wu, Z. L. Yu, Z. G. Zhao, H. Liu, B. Hua, X. M. Xie, Z. L. Xiu, X. Q. Han, P. Shi, Y. Zhang, R. Zheng, Y. D. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 23 (2011) nr. 6 pagina's 1224-1228 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 25 gevonden artikelen
| volgende >> |