|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 43 gevonden artikelen
| Titel: |
Tunneling currents through ultra thin HfO2/Al2O3/HfO2 triple layer gate dielectrics for advanced MIS devices |
| Auteur: |
Tyagi, Hitender Kumar George, P. J. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2008) nr. 8-9 pagina's 902-907 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 43 gevonden artikelen
| << vorige |