|
Formation of insulating oxygen-containing layer on the silicon wafer surface using low-temperature hydrogenation |
|
|
|
Titel: |
Formation of insulating oxygen-containing layer on the silicon wafer surface using low-temperature hydrogenation |
Auteur: |
Zinchuk, O. Saad, A. Drozdov, N. Fedotov, A. Kobeleva, S. Mazanik, A. Patryn, A. Pilipenko, V. Pushkarchuk, A. |
Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
Paginering: |
Jaargang 19 (2008) nr. 1 pagina's 273-276 |
Jaar: |
2008 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, Boston |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|