|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 42 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface treatment for high-quality Al2O3 and HfO2 layers deposited on HF-dipped surface by atomic layer deposition |
| Auteur: |
J.-F. Damlencourt O. Renault A. Chabli F. Martin M.-N. Séméria F. Bedu |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 14 (2003) nr. 5 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2003-05/07-/07 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 42 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |