|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition of HfO2 thin films and nanolayered HfO2–Al2O3–Nb2O5 dielectrics |
| Auteur: |
Kukli, Kaupo Ritala, Mikko Leskelä, Markku Sajavaara, Timo Keinonen, Juhani Gilmer, David C. Hegde, Rama Rai, Raghaw Prabhu, Lata |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 14 (2003) nr. 5-7 pagina's 361-367 |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |