|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of the characteristics of TiO2 films prepared by low-pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Huang, S. S. Chen, J. S. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 13 (2002) nr. 2 pagina's 77-81 |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |