|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-dose SIMOX wafers for LSIs fabricated with internal-thermal-oxidation (ITOX) process: electrical characterization |
| Auteur: |
A. Matsumura K. Kawamura I. Hamaguchi S. Takayama T. Yano Y. Nagatake |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 5 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1999-07 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |