|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-dose SIMOX wafers for LSIs fabricated with internal-thermal-oxidation (ITOX) process: electrical characterization |
| Auteur: |
Matsumura, A. Kawamura, K. Hamaguchi, I. Takayama, S. Yano, T. Nagatake, Y. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 5-6 pagina's 365-371 |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |