|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Metalorganic chemical vapor deposition of aluminum from tetramethylethylenediamine alane |
| Auteur: |
Kim, Dae-Hwan Park, Man-Young Rhee, Shi-Woo |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 4 pagina's 285-290 |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |