|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of annealing in \hbox{O}_{2} and \hbox{N}_{2} on the microstructure of metal organic chemical vapor deposition \hbox{Ta}_{2}\hbox{O}_{5} film and the interfacial \hbox{SiO}_{2} layer |
| Auteur: |
Young-Bae Park Xiaodong Li, Gap-Jin Nam, Shi-Woo Rhee |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 10 (1999) nr. 2 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1999-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |