|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 70 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhancing oxidation rate of 4H–SiC by oxygen ion implantation |
| Auteur: |
Liu, Min Zhang, Shuyuan Yang, Xiang Chen, Xue Fan, Zhongchao Wang, Xiaodong Yang, Fuhua Ma, Chao He, Zhi |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 54 (2018) nr. 2 pagina's 1147-1152 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 70 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |