|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 65 gevonden artikelen
| Titel: |
Microstructure and electrical properties of thin HfO2 deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition |
| Auteur: |
Chesnokov, Yu. M. Miakonkikh, A. V. Rogozhin, A. E. Rudenko, K. V. Vasiliev, A. L. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 53 (2018) nr. 10 pagina's 7214-7223 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 65 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |