|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 52 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal stability, structural and electrical characteristics of the modulated HfO2/Al2O3 films fabricated by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Nie, Xianglong Ma, Dayan Ma, Fei Xu, Kewei |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 52 (2017) nr. 19 pagina's 11524-11536 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 52 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |