|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 45 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
The effects of thermal nitridation on phosphorus diffusion in strained SiGe and SiGe:C |
| Auteur: |
Lin, Yiheng Yasuda, Hiroshi Schiekofer, Manfred Xia, Guangrui |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 51 (2015) nr. 3 pagina's 1532-1540 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 45 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |