|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 50 gevonden artikelen
| Titel: |
Growth characteristics and electrical properties of SiO2 thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition and chemical vapor deposition with an aminosilane precursor |
| Auteur: |
Jung, Hanearl Kim, Woo-Hee Oh, Il-Kwon Lee, Chang-Wan Lansalot-Matras, Clement Lee, Su Jeong Myoung, Jae-Min Lee, Han-Bo-Ram Kim, Hyungjun |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 51 (2016) nr. 11 pagina's 5082-5091 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 50 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |