Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige   
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 32 van 32 gevonden artikelen
 
 
  Zr–Ti–Ni thin film metallic glass as a diffusion barrier between copper and silicon
 
 
Titel: Zr–Ti–Ni thin film metallic glass as a diffusion barrier between copper and silicon
Auteur: Wang, Chih-Wei
Yiu, Pakman
Chu, Jinn P.
Shek, Chan-Hung
Hsueh, Chun-Hway
Verschenen in: Journal of materials science
Paginering: Jaargang 50 (2014) nr. 5 pagina's 2085-2092
Jaar: 2014
Inhoud:
Uitgever: Springer US, Boston
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 32 van 32 gevonden artikelen
 
<< vorige   
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland