|
CW-diode laser crystallization of sputtered amorphous silicon on glass, SiNx, and SiO2 intermediate layers |
|
|
|
Titel: |
CW-diode laser crystallization of sputtered amorphous silicon on glass, SiNx, and SiO2 intermediate layers |
Auteur: |
Schmidl, G. Andrä, G. Bergmann, J. Gawlik, A. Höger, I. Anders, S. Schmidl, F. Tympel, V. Falk, F. |
Verschenen in: |
Journal of materials science |
Paginering: |
Jaargang 48 (2013) nr. 12 pagina's 4177-4182 |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, Boston |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|