|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 44 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
Physical properties of thermally evaporated silicon films nitrided at different rf plasma-processing time |
| Auteur: |
Mohamed, S. H. Raaif, M. Abd El-Rahman, A. M. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 47 (2011) nr. 6 pagina's 2875-2881 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 44 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |