|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Thin film deposition using a plasma source with a hot refractory anode vacuum arc |
| Auteur: |
Beilis, Isak I. Koulik, Yosef Boxman, Raymond L. Arbilly, David |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 45 (2010) nr. 23 pagina's 6325-6331 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |