|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Memory characteristics of Al2O3/LaAlO3/SiO2 multilayer structures with tunnel oxide thickness variation |
| Auteur: |
Cha, Seung-Yong Kim, Hyo-June Choi, Doo-Jin |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 45 (2010) nr. 19 pagina's 5223-5227 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |