|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Response of radiation dosimeters based on in situ oxygen plasma post-treated CVD-diamond thin films to X-ray |
| Auteur: |
Liao, Xiaoming Ran, Junguo Gou, Li |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 45 (2010) nr. 10 pagina's 2780-2787 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |