|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic simulation of CeO2 surface hydroxylation: implications for glass polishing |
| Auteur: |
Stanek, Christopher R. Tan, Averyl H. H. Owens, Scott L. Grimes, Robin W. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 43 () nr. 12 pagina's 4157-4162 |
| Jaar: |
2008-06-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |