|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of plasma treatment on the microstructure and electrical properties of MIM capacitors with PECVD silicon oxide and silicon nitride |
| Auteur: |
Ho, Chia-Cheng Chiou, Bi-Shiou |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 42 (2006) nr. 3 pagina's 941-947 |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |