|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
Application of N2/Ar inductively coupled plasma &%23x2192; the photoresist ashing for low-k dielectrics |
| Auteur: |
Kim, Hyoun Woo Myung, Ju Hyun Kim, Nam Ho Yoo, Chung-Gon Suh, Kee Won Kim, Sung Kyeong Choi, Dae-Kyu Chung, Chin-Wook Kang, Chang-Jin Park, Wan Jae Park, Se-Geun Lee, Jae-Gab |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 40 (2005) nr. 13 pagina's 3543-3544 |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |