|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 33 gevonden artikelen
| Titel: |
Behaviour of ionized metal plasma deposited Ta diffusion barrier between Cu and SiO2 |
| Auteur: |
Khin Maung Latt H. S. Park S. Li Liu Rong T. Osipowicz W. G. Zhu Y. K. Lee |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 37 (2002) nr. 10 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2002-0515-15 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 33 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |