|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Diffusion barrier properties of ionized metal plasma deposited tantalum nitride thin films between copper and silicon dioxide |
| Auteur: |
Khin Maung Latt Y. K. Lee H. L. Seng T. Osipowicz |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 36 (2001) nr. 24 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001-1215-15 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |