|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparative study of copper films prepared by ionized metal plasma sputtering and chemical vapor deposition in the Cu/TaN/SiO2/Si multilayer structure |
| Auteur: |
Khin Maung Latt C. Sher-Yi T. Osipowicz K. Lee Y. K. Lee |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 36 (2001) nr. 23 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2001-1201-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |