|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Cracking mechanism in AlN(11―20)/α-Al2O3(1―102) heteroepitaxial films grown by MOCVD |
| Auteur: |
K. Kaigawa T. Shibata Y. Nakamura K. Asai M. Tanaka H. Sakai T. Tsurumi |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 36 (2001) nr. 19 pagina's 11 p. |
| Jaar: |
2001-1001-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |