|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 30 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of interfacial reactions in ionized metal plasma (IMP) deposited Al-0.5%wtCu/Ti/SiO2/Si structure |
| Auteur: |
Lee, Y. K. Latt, Khin Maung Jaehyung, Kim Osipowicz, T. Chiam, Sher-Yi Lee, Kangsoo |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 35 (2000) nr. 23 pagina's 5857-5860 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 30 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |