|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of deposition and annealing conditions on the structure and electrical properties of LPCVD silicon thin films |
| Auteur: |
Das, S. Shriram, R. Bhat, K. N. Rao, P. R. S. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 35 (2000) nr. 18 pagina's 4743-4746 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |