|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Insitu high temperature Xray diffraction study of NiSiC interface reactions |
| Auteur: |
T Fujimura SI Tanaka |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 34 (1999) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999-0115-15 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |