|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 25 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
SiOxNy Films deposited with SiCl4 by remote plasma enhanced CVD |
| Auteur: |
O Sanchez J M MartinezDuart R J GomezSanroman R PerezCasero M A Aguilar C Falcony F FernandezGutierrez M HernándezVélez |
| Verschenen in: |
Journal of materials science |
| Paginering: | Jaargang 34 (1999) nr. 12 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1999-0615-15 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston, U.S.A |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 25 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |