|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of process variation on the RF and stability performance of SiGe source-based epitaxial layer TFET |
| Auteur: |
Debnath, Radhe Gobinda Baishya, Srimanta |
| Verschenen in: |
Journal of computational electronics |
| Paginering: | Jaargang 21 () nr. 5 pagina's 1150-1162 |
| Jaar: |
2022-08-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |