|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Capacitance matching by optimizing the geometry of a ferroelectric HfO2-based gate for voltage amplification |
| Auteur: |
Chen, K.-T. Hsiang, K.-Y. Liao, C.-Y. Chang, S.-H. Hsieh, F.-C. Liu, J.-H. Chiang, S.-H. Liang, H. Chang, S. T. Lee, M. H. |
| Verschenen in: |
Journal of computational electronics |
| Paginering: | Jaargang 20 () nr. 3 pagina's 1209-1215 |
| Jaar: |
2021-04-19 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |