|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of etching parameters on the electrochemical response of silicon nanowires |
| Auteur: |
Zaïbi, Fatma Slama, Ichrak Beshchasna, Natalia Opitz, Jörg Mkandawire, Martin Chtourou, Radhouane |
| Verschenen in: |
Journal of applied electrochemistry |
| Paginering: | Jaargang 52 () nr. 2 pagina's 273-284 |
| Jaar: |
2021-11-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |