|
Influence of plating parameters and solution chemistry on the voiding propensity at electroplated copper–solder interface |
|
|
|
Titel: |
Influence of plating parameters and solution chemistry on the voiding propensity at electroplated copper–solder interface |
Auteur: |
Liu, Y. Wang, J. Yin, L. Kondos, P. Parks, C. Borgesen, P. Henderson, D. W. Cotts, E. J. Dimitrov, N. |
Verschenen in: |
Journal of applied electrochemistry |
Paginering: |
Jaargang 38 (2008) nr. 12 pagina's 1695-1705 |
Jaar: |
2008 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|