|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Photocatalytic degradation rate of oxalic acid on a semiconductive layer of n-TiO2 particles in a batch mode plate photoreactor Part II: Light intensity limit |
| Auteur: |
J. Krýsa L. Vodehnal J. Jirkovský |
| Verschenen in: |
Journal of applied electrochemistry |
| Paginering: | Jaargang 29 (1999) nr. 4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1999-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, The Netherlands |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |