|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
A model-based clustering approach to the recognition of the spatial defect patterns produced during semiconductor fabrication |
| Auteur: |
Yuan, Tao Kuo, Way |
| Verschenen in: |
IIE transactions |
| Paginering: | Jaargang 40 (2008) nr. 2 pagina's 93-101 |
| Jaar: |
2008-02 |
| Inhoud: |
Defects on semiconductor wafers tend to cluster and the spatial defect patterns of these defect clusters contain valuable information about potential problems in the manufacturing processes. This study proposes a model-based clustering algorithm for automatic spatial defect recognition on semiconductor wafers. A mixture model is proposed to model the distributions of defects on wafer surfaces. The proposed algorithm can find the number of defect clusters and identify the pattern of each cluster automatically. It is capable of detecting defect clusters with linear patterns, curvilinear patterns and ellipsoidal patterns. Promising results have been obtained from simulation studies. |
| Uitgever: |
Taylor & Francis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 7 gevonden artikelen
| volgende >> |