|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1 –x)2O3 Thin Films |
| Auteur: |
Mochalov, L. A. Kudryashov, M. A. Prokhorov, I. O. Vshivtsev, M. A. Kudryashova, Yu. P. Knyazev, A. V. |
| Verschenen in: |
High energy chemistry |
| Paginering: | Jaargang 57 () nr. 5 pagina's 430-435 |
| Jaar: |
2023-09-29 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |