|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Composition and Surface Properties of a Silicon Dioxide Film Deposited by a Plasma-Chemical Technique |
| Auteur: |
Izgorodin, V. M. Tolokonnikov, Yu. V. Aushev, A. A. Kovylov, A. F. Zolotukhina, N. L. |
| Verschenen in: |
High energy chemistry |
| Paginering: | Jaargang 36 (2002) nr. 6 pagina's 426-430 |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |