Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 8 van 30 gevonden artikelen
 
 
  Interrelation between the Parameters of Chemical Vapor Deposition, Properties, and Structure of Borophosphosilicate Glass Films Used in the Silicon Integrated Circuit Technology
 
 
Titel: Interrelation between the Parameters of Chemical Vapor Deposition, Properties, and Structure of Borophosphosilicate Glass Films Used in the Silicon Integrated Circuit Technology
Auteur: Vasilev, V. Yu.
Verschenen in: Glass physics and chemistry
Paginering: Jaargang 29 (2003) nr. 5 pagina's 461-470
Jaar: 2003
Inhoud:
Uitgever: Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 8 van 30 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland