|
Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications |
|
|
|
Titel: |
Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications |
Auteur: |
Wolfberger, Archim Petritz, Andreas Fian, Alexander Herka, Jakob Schmidt, Volker Stadlober, Barbara Kargl, Rupert Spirk, Stefan Griesser, Thomas |
Verschenen in: |
Cellulose |
Paginering: |
Jaargang 22 (2014) nr. 1 pagina's 717-727 |
Jaar: |
2014 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|