|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical vapor deposition of gold on Al2O3, SiO2, and TiO2 for the oxidation of CO and of H2 |
| Auteur: |
Okumura, Mitsutaka Nakamura, Shyunichi Tsubota, Susumu Nakamura, Toshiko Azuma, Masashi Haruta, Masatake |
| Verschenen in: |
Catalysis letters |
| Paginering: | Jaargang 51 (1998) nr. 1-2 pagina's 53-58 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |