|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
HfO2/SiO2 spacer oxide width optimization for enhanced terahertz performance and short-channel integrity in sub-nm silicon based junctionless dual metal gate-all-around FET architectures: A TCAD approach |
| Auteur: |
Yadav, Shekhar Srivastava, Pooja Negi, C.M.S. |
| Verschenen in: |
Nano trends |
| Paginering: | Jaargang 10 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |