|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of interface, border and bulk traps of Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors via O2 plasma treatment |
| Auteur: |
Du, Song Lin, Yuxiang Xu, Hao Long, Hao |
| Verschenen in: |
Micro and nanostructures |
| Paginering: | Jaargang 198 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |