|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 34 van 54 gevonden artikelen
| Titel: |
Minimizing interfacial defects and enhancing hybrid oxidation in HfAlOx MIOS structures via In-Situ plasma treatment for enhancing electrical properties |
| Auteur: |
Chen, Zhao-Cheng Chang, Yu-Chi Chang, Sheng-Po Chang, Shoou-Jinn |
| Verschenen in: |
Applied surface science advances |
| Paginering: | Jaargang 27 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 34 van 54 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |