|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Design and development of multilayer cotton masks via machine learning |
| Auteur: |
Leow, Y. Shi, J.K. Liu, W. Ni, X.P. Yew, P.Y.M. Liu, S. Li, Z. Xue, Y. Kai, D. Loh, X.J. |
| Verschenen in: |
Materials today advances |
| Paginering: | Jaargang 12 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |