|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 3 gevonden artikelen
| Titel: |
Corrigendum to “Understanding dose correction for high-resolution 50 kV electron-beam lithography on thick resist layers” [Micro and Nano Engineering Volume 16, August 2022, 100141] |
| Auteur: |
Åstrand, Mattias Frisk, Thomas Ohlin, Hanna Vogt, Ulrich |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 26 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 3 gevonden artikelen
| volgende >> |