|
Damascene versus subtractive line CMP process for resistive memory crossbars BEOL integration |
|
|
|
Titel: |
Damascene versus subtractive line CMP process for resistive memory crossbars BEOL integration |
Auteur: |
Dawant, Raphaƫl Gaudreau, Matthieu Roy, Marc-Antoine Mouny, Pierre-Antoine Valdenaire, Matthieu Gliech, Pierre Zapata, Javier Arias Zegaoui, Malek Alibart, Fabien Drouin, Dominique Ecoffey, Serge |
Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
Paginering: |
Jaargang 23 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2024 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|